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• 采用了平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統；
• 目鏡：采用高眼點平場目鏡PL10X/18mm；
• 物鏡：長工作距平場消色差金相物鏡5X、10x、20x、50x；
• 玻璃載物臺：102mm*102mm，移動范圍：76mmX50mm；
• 粗調行程：28mm，微調精度：0.002mm；
• 廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦 物分析及精密工程等學科領域；

     譜量光電 BH200M金相顯微鏡采用了平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好。帶可變孔徑光闌與視場光闌,視場光闌中心可調；。雙層機械移動平臺：玻璃載物臺102mm*102mm，移動范圍76mm×50mm；低手位粗微調同軸設計，粗調行程25mm，微調精度0.002mm，操作便捷且精確。目鏡采用高眼點平場目鏡PL10X/18mm目鏡，視場數達18mm，提供寬闊平坦的觀察空間，減少視覺疲勞。配備長工作距離物鏡：5X、10X、20X、50X物鏡可選，滿足不同放大倍數需求，適應多種樣品觀察。