探針臺
Probe Stations
光源(波長匹配,如1550 nm)、光功率計、光纖夾具、六軸位移臺。
清潔光纖端面和芯片耦合區(qū)域(使用異丙醇和無塵布)。
斷開芯片,將光纖直接連接至功率計,記錄輸出功率 P(in) (需扣除連接器損耗)。
將光纖對準(zhǔn)芯片耦合結(jié)構(gòu)(端面/光柵),通過位移臺微調(diào)至功率計讀數(shù)最大。
記錄穩(wěn)定后的輸出功率 P(out)

注意:若芯片有多個輸出端口,需匯總所有端口功率。
在目標(biāo)波段(如1520-1580 nm)內(nèi)步進(jìn)掃描,驗證寬帶性能。
| 可能原因 | 排查步驟 | 解決方案 |
|---|---|---|
| 端面污染或損傷 | 1、顯微鏡觀察端面是否有劃痕或顆粒。 2、紅外相機(jī)檢查光斑是否畸變。 | 1、等離子清洗(O?/Ar混合氣體)。 2、重新拋光端面(8°斜角拋光)。 |
| 模場嚴(yán)重失配 | 1、仿真對比光纖與波導(dǎo)的模場尺寸(MFD)。 2、近場掃描實測模場重疊度。 | 1、添加錐形波導(dǎo)擴(kuò)展模場。 2、使用模場轉(zhuǎn)換器(如SiN過渡層)。 |
| 未對準(zhǔn)(X/Y/Z/角度) | 1、紅外相機(jī)觀察光斑偏移。 2、六軸位移臺微調(diào)時監(jiān)測功率變化。 | 1、主動對準(zhǔn)算法(如爬山法)。 2、設(shè)計對準(zhǔn)標(biāo)記(十字/光柵) |
| 反射損耗未抑制 | 1、測量回波損耗(OTDR或光環(huán)形器) | 1、鍍抗反射膜(如λ/4 SiN膜)。 2、端面斜切(8°~10°)。 |
| 可能原因 | 排查步驟 | 解決方案 |
|---|---|---|
| 機(jī)械松動或振動 | 1、輕觸光纖觀察功率跳變。 2、檢查夾具螺絲是否擰緊。 | 1、紫外膠固化或激光焊接固定。 2、 使用陶瓷夾具(低熱膨脹)。 |
| 溫度漂移 | 記錄溫度變化與功率波動相關(guān)性 | 1、溫控平臺(±0.1°C)。 2、選用低TCE材料(如玻璃基板)。 |
| 光源不穩(wěn)定 | 隔離光源直接測功率穩(wěn)定性 | 1、更換穩(wěn)定激光器。 2、增加光隔離器 |
| 可能原因 | 排查步驟 | 排查步驟 |
|---|---|---|
| 光柵耦合器設(shè)計問題 | 測試不同波長下的效率曲線 | 1、優(yōu)化光柵參數(shù)(周期、占空比)。 2、使用啁啾光柵拓寬帶寬。 |
| 波導(dǎo)色散過大 | 仿真波導(dǎo)的有效折射率隨波長變化 | 1、改用低色散材料(如SiN)。 2、設(shè)計色散補(bǔ)償結(jié)構(gòu) |
4、多模干擾(光斑分裂/效率波動)
| 可能原因 | 排查步驟 | 排查步驟 |
|---|---|---|
| 光纖激發(fā)高階模 | 1、觀察輸出光斑是否分裂。 2、模式分析儀檢測。 | 1、使用單模光纖。 2、添加模場濾波器。 |
| 波導(dǎo)尺寸是否支持多模 | 仿真波導(dǎo)的模場分布 | 1、縮小波導(dǎo)尺寸至單模條件。 2、 設(shè)計模場適配器。 |
| 可能原因 | 可能原因 | 排查步驟 |
|---|---|---|
| 材料老化(膠水/涂層) | 高溫高濕測試后效率衰減 | 1、改用耐候性材料(如環(huán)氧樹脂)。 2、密封封裝。 |
| 金屬化層氧化 | 電鏡觀察電極氧化情況 | 1、鍍金保護(hù)層。 2、 惰性氣體環(huán)境存儲 |

對準(zhǔn)工具:六軸位移臺、顯微鏡觀察系統(tǒng)、相機(jī)、光纖夾具等。
測量設(shè)備:光功率計、光譜分析儀(波長相關(guān)測試)、激光器等。


